• 专利标题: 酸性电镀铜溶液氯离子替代方法
  • 专利标题(英): Acidic electroplating copper solution chloride ion alternative method
  • 申请号: CN201210012886.2
    申请日: 2012-01-16
  • 公开(公告)号: CN102534704B
    公开(公告)日: 2014-07-16
  • 发明人: 张来祥谢洪波郭治田马学奎
  • 申请人: 青岛大学
  • 申请人地址: 山东省青岛市崂山区香港东路7号
  • 专利权人: 青岛大学
  • 当前专利权人: 青岛大学
  • 当前专利权人地址: 山东省青岛市崂山区香港东路7号
  • 代理机构: 济南舜源专利事务所有限公司
  • 代理商 王连君
  • 主分类号: C25D3/38
  • IPC分类号: C25D3/38
酸性电镀铜溶液氯离子替代方法
摘要:
本发明公开了一种酸性电镀铜溶液氯离子替代方法,其使用含磷物质作为电镀铜氯离子替代剂添加至镀液中,含磷物质可以单独使用,也可以混合使用,并能与氯离子同时使用。酸性电镀铜溶液引入氯离子替代成分后,镀层光亮度、填平性、均镀能力等技术指标保持不变,且可避免现有镀液中因氯离子含量敏感而具有的使用危险性、管理困难等种种弊端,简化酸性电镀铜溶液的维护和管理,减少故障率,提高产品质量。
公开/授权文献
0/0