发明公开
- 专利标题: 任意槽形光栅结构的全息曝光装置及其曝光方法
- 专利标题(英): Holographic exposure device of any groove grating structure and exposure method thereof
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申请号: CN201210139805.5申请日: 2012-05-08
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公开(公告)号: CN102636968A公开(公告)日: 2012-08-15
- 发明人: 凌进中 , 黄元申 , 王振云 , 王琦 , 裴梓任 , 韩朝霞 , 张大伟 , 庄松林
- 申请人: 上海理工大学
- 申请人地址: 上海市杨浦区军工路516号
- 专利权人: 上海理工大学
- 当前专利权人: 上海理工大学
- 当前专利权人地址: 上海市杨浦区军工路516号
- 代理机构: 上海新天专利代理有限公司
- 代理商 王敏杰
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G02B5/18 ; G03H1/12
摘要:
本发明揭示了一种任意槽形光栅结构的全息曝光装置及其曝光方法,所述装置包括激光器、主分束镜;激光器发射的光束经过主分束镜分为若干束光路,每束光路均经过一子曝光单元。子曝光单元包括可调光衰减器、分束镜、第一反射镜、第二反射镜、第一准直扩束镜、第二准直扩束镜、旋转平台、压电陶瓷及驱动器、显微物镜组、CCD接收器及驱动电路、数据采集卡和计算机。本发明采用傅里叶分解的思想,实现任意槽形光栅的全息法制作。装置中设有CCD,能够实时地反映干涉条纹的振动漂移情况,并以此驱动压电陶瓷,实现干涉条纹的锁定,避免条纹抖动对长时间曝光的影响,同时根据扩束后的干涉条纹信息精确控制各组干涉条纹的位相,实现多组干涉条纹的匹配叠加。
IPC分类: