Invention Grant
CN102639320B 阻气性膜、装置以及阻气性膜的制造方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 阻气性膜、装置以及阻气性膜的制造方法
- Patent Title (English): Gas barrier film, device, and process for production of gas barrier film
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Application No.: CN201080053566.0Application Date: 2010-11-25
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Publication No.: CN102639320BPublication Date: 2013-09-04
- Inventor: 中津川雄二
- Applicant: 大日本印刷株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 大日本印刷株式会社
- Current Assignee: 大日本印刷株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 段承恩; 田欣
- Priority: 269391/2009 2009.11.27 JP; 258551/2010 2010.11.19 JP
- International Application: PCT/JP2010/070990 2010.11.25
- International Announcement: WO2011/065404 JA 2011.06.03
- Date entered country: 2012-05-25
- Main IPC: B32B9/00
- IPC: B32B9/00 ; B32B9/04 ; B32B27/36 ; H01L31/042 ; C23C14/08

Abstract:
本发明提供阻气性优异的阻气性膜、使用该阻气性膜的装置、该阻气性膜的制造方法。阻气性膜(1)含有所含的低聚物量为1质量%以下的塑料膜(2)、在塑料膜(2)上设置的有机层(3)、和在有机层(3)上设置的无机层(4),有机层(3)的厚度比塑料膜表面的最大高低差大。由此能够提供阻气性优异的阻气性膜(1)。
Public/Granted literature
- CN102639320A 阻气性膜、装置以及阻气性膜的制造方法 Public/Granted day:2012-08-15
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