发明授权
- 专利标题: 多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法
- 专利标题(英): Preparation method of porous nano silicon dioxide anti-reflection film
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申请号: CN201110059381.7申请日: 2011-03-11
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公开(公告)号: CN102674704B公开(公告)日: 2014-07-09
- 发明人: 谢光明 , 张英超 , 王启
- 申请人: 北京市太阳能研究所有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区花园路3号
- 专利权人: 北京市太阳能研究所有限公司
- 当前专利权人: 桑普能源科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区花园路3号
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理商 王莹
- 主分类号: C03C17/23
- IPC分类号: C03C17/23
摘要:
本发明公开了一种多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法,其包括抛光、裂纹和造孔。本发明的方法利用氟硅酸的二氧化硅饱和溶液对玻璃表面进行选择性浸蚀,将玻璃表面反射率较高的氧化钙、氧化钠以及金属氧化物进行有选择的浸蚀,在玻璃表面形成一层多孔纳米二氧化硅减反射膜,从而达到降低玻璃反射率提高玻璃透过率的目的。由该工艺生产的玻璃透过率可提高2~5%,具有明显的增透效果,另外该工艺生产的玻璃透具有显著的防眩作用,能够对人眼起到很好的保护。
公开/授权文献
- CN102674704A 多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法 公开/授权日:2012-09-19