- 专利标题： 用于试剂制备装置的控制系统、控制试剂制备的方法及用于样本处理装置的控制系统
- 专利标题（英）： Controlling system of reagent preparing device, method for controlling reagent preparation and controlling system for sampling processing device
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申请号： CN201210065060.2申请日： 2012-03-13
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公开(公告)号： CN102680718B公开(公告)日： 2015-02-18
- 发明人: 池田穣 , 中西利志
- 申请人： 希森美康株式会社
- 申请人地址： 日本兵库县神户市中央区脇浜海岸通1丁目5番1号
- 专利权人： 希森美康株式会社
- 当前专利权人： 希森美康株式会社
- 当前专利权人地址： 日本兵库县神户市中央区脇浜海岸通1丁目5番1号
- 代理机构： 北京市安伦律师事务所
- 代理商 刘良勇
- 优先权： 2011-055629 2011.03.14 JP
- 主分类号： G01N35/00
- IPC分类号： G01N35/00
摘要：
本发明的试剂制备装置包括：试剂制备部件，用于制备样本处理中所用的试剂；测量部件，用于测量所述试剂制备部件制备的试剂的特性；废弃部件，用于废弃所述测量部件的测量结果不符合一定条件的试剂；及控制部件，用于控制所述试剂制备部件的试剂制备作业；其中，当所述测量部件的测量结果不符合所述一定条件的次数达到指定的复数次时，该控制部件停止所述试剂制备部件的试剂制备作业。本发明还提供一种试剂制备方法和样本制备装置。
公开/授权文献
- CN102680718A 试剂制备装置、试剂制备方法及样本处理装置 公开/授权日：2012-09-19
