发明授权
CN102694172B 一种单层WS2与石墨烯复合纳米材料的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种单层WS2与石墨烯复合纳米材料的制备方法
- 专利标题(英): Preparation method of composite nano material of single-layer WS2 and graphene
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申请号: CN201210187881.3申请日: 2012-06-08
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公开(公告)号: CN102694172B公开(公告)日: 2014-05-21
- 发明人: 陈卫祥 , 王臻 , 黄国创 , 马琳
- 申请人: 浙江大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
- 专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
- 代理机构: 杭州求是专利事务所有限公司
- 代理商 韩介梅
- 主分类号: H01M4/583
- IPC分类号: H01M4/583 ; C10M103/00 ; B01J32/00 ; B01J27/047 ; B82Y40/00 ; C10N50/08
摘要:
本发明公开了单层WS2与石墨烯复合纳米材料的制备方法,该复合纳米材料是由单层WS2与石墨烯复合构成,单层WS2与石墨烯之间的物质量之比为1:1-1:4,其制备方法是将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,搅拌下依次加入阳离子表面活性剂和硫代钼酸铵,并慢慢滴加水合肼,在95℃回流下反应,使硫代钨酸铵和氧化石墨烯同时分别还原成WS2和石墨烯,离心收集固体产物,洗涤,干燥,在氮气/氢气混合气氛中热处理,得到单层WS2与石墨烯的复合纳米材料。本发明方法具有工艺简单,易于工业化大规模生产的特点。
公开/授权文献
- CN102694172A 一种单层WS2与石墨烯复合纳米材料的制备方法 公开/授权日:2012-09-26