发明授权
- 专利标题: 一种制备Al掺杂的碳化硅纳米线的方法
- 专利标题(英): Method for preparing Al-doped silicon carbide nanowires
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申请号: CN201210206341.5申请日: 2012-06-21
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公开(公告)号: CN102701207B公开(公告)日: 2013-10-09
- 发明人: 李贺军 , 褚衍辉 , 付前刚 , 李克智 , 李露
- 申请人: 西北工业大学
- 申请人地址: 陕西省西安市友谊西路127号
- 专利权人: 西北工业大学
- 当前专利权人: 西北工业大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市友谊西路127号
- 代理机构: 西北工业大学专利中心
- 代理商 王鲜凯
- 主分类号: C01B31/36
- IPC分类号: C01B31/36
摘要:
本发明涉及一种制备Al掺杂的碳化硅纳米线的方法,技术特征在于:在无催化剂的条件下以反应烧结的硅基陶瓷和石墨粉为前驱体在硅基陶瓷表面大量合成的Al掺杂SiC纳米线。本方法低成本、高效地制备大量的高纯Al掺杂的SiC纳米线。此外,通过调整制备温度可以有效控制合成Al掺杂的SiC纳米线的形貌和尺寸。合成的纳米线主要由大量的直径变化的6H-SiC纳米线组成。纳米线的中心线或中心杆的直径分布在50~100nm范围内,中心线或中心杆上节点结构的直径分布在150~300nm范围内,且都是由Si、C、Al、O等四种元素组成。它们的长度可控,最长可以达到毫米数量级。
公开/授权文献
- CN102701207A 一种制备Al掺杂的碳化硅纳米线的方法 公开/授权日:2012-10-03