发明授权
- 专利标题: 曝光设备
- 专利标题(英): Exposure system
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申请号: CN201080052304.2申请日: 2010-11-08
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公开(公告)号: CN102741726B公开(公告)日: 2015-03-11
- 发明人: 汉斯·奥普韦 , 克劳斯·云格尔
- 申请人: 克列奥股份公司
- 申请人地址: 瑞士阿彭策尔
- 专利权人: 克列奥股份公司
- 当前专利权人: 克列奥股份公司
- 当前专利权人地址: 瑞士阿彭策尔
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 杨靖; 车文
- 优先权: 102009046809.9 2009.11.18 DE
- 国际申请: PCT/EP2010/067010 2010.11.08
- 国际公布: WO2011/061086 DE 2011.05.26
- 进入国家日期: 2012-05-18
- 主分类号: G02B26/12
- IPC分类号: G02B26/12 ; G03F7/20 ; H01L21/20
摘要:
对于用于在布置于物体上的光敏层内产生曝光结构的曝光设备,所述曝光设备包括容纳物体的物体载体和曝光装置,其中,物体载体和曝光装置可以彼此相对运动,以及其中,利用所述曝光装置可以位置受控制地在光敏层上产生曝光点,从曝光装置中发出曝光射束,利用曝光射束中的每条曝光射束通过成像单元可以在光敏层上产生曝光点,提出:为至少一个偏转元件分配有至少一个产生第一曝光射束的组的第一曝光单元和至少一个产生第二曝光射束的组的第二曝光单元,所述曝光单元的第一曝光射束或第二曝光射束能由同一偏转元件在其运动时偏转,以及用于第一曝光射束的镜面区和用于第二曝光射束的镜面区在列方向上彼此相对错开地布置在偏转元件上。
公开/授权文献
- CN102741726A 曝光设备 公开/授权日:2012-10-17