本发明涉及一种调节真空磁控辉光均匀性装置和方法，该装置包括长度调节机构、辉光均匀控制机构、辉光均匀机构，所述长度调节机构与所述辉光均匀控制机构配合以控制所述辉光均匀机构调节所述辉光的均匀性。该方法首先测量溅射产品均匀性，判断各个位置的溅射强弱；然后调节杆根据溅射强弱的位置调节长度以定位需要调节的挡板，并旋转带动挡板钉移动，控制该位置挡板开口大小，然后继续生产溅射产品并测量其均匀性，再重复上述步骤，直至均匀性达到生产要求。本发明的有益效果包括可以在真空环境下操作，不用回气操作，降低了成本，并节约人力物力；可以精确调节辉光均匀性。