发明授权
- 专利标题: 膜电解堆叠体、包括所述堆叠体的电渗析装置和用于无电镀浴再生的方法
- 专利标题(英): Membrane electrolysis stack, electrodialysis device including the stack and method for the regeneration of an electroless plating bath
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申请号: CN201180009796.1申请日: 2011-04-13
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公开(公告)号: CN102762284B公开(公告)日: 2015-04-29
- 发明人: J·海德克
- 申请人: 埃托特克德国有限公司
- 申请人地址: 德国柏林
- 专利权人: 埃托特克德国有限公司
- 当前专利权人: 埃托特克德国有限公司
- 当前专利权人地址: 德国柏林
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 苗征; 于辉
- 优先权: 102010015361.3 2010.04.16 DE
- 国际申请: PCT/EP2011/055832 2011.04.13
- 国际公布: WO2011/128376 EN 2011.10.20
- 进入国家日期: 2012-08-16
- 主分类号: B01D61/44
- IPC分类号: B01D61/44 ; C23C18/16
摘要:
为了防止电渗析装置中的生物污染,发明了膜电解堆叠体和包括该膜电解堆叠体的电渗析装置。所述电渗析装置优选用于无电镀浴,例如镍镀浴的再生。它包括至少一个阳极An和至少一个阴极Ca、以及在阳极An和阴极Ca之间设置的膜电解堆叠体,每个膜电解堆叠体包括彼此叠置的膜和设置在其间的各电解质室,在所述膜电解堆叠体中至少一个第一膜和至少一个第二膜连续交替。至少一个第一膜选自阴离子交换膜A和双极膜BP,并且至少一个第二膜选自单选择性阴离子交换膜MSA、单选择性阳离子交换膜CSA和质子选择性交换膜,条件是所述膜电解堆叠体中的至少一个第一膜和至少一个第二膜各自独立地选择,并且所述膜电解堆叠体中的至少一个第一膜是双极膜(BP)。此外,至少一个第一膜的阴极侧上的电解质室是稀液室Di1、Di2,其中可含有待再生的电解质,并且在至少一个第二膜的阴极侧上的电解质室是浓液室(Co1、Co2、Co3),其中可含有从待再生的电解质吸取的干扰性离子。
公开/授权文献
- CN102762284A 膜电解堆叠体、包括所述堆叠体的电渗析装置和用于无电镀浴再生的方法 公开/授权日:2012-10-31