发明授权
- 专利标题: 半导体集成电路
- 专利标题(英): Semiconductor integrated circuit
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申请号: CN201210189534.4申请日: 2012-06-08
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公开(公告)号: CN102832925B公开(公告)日: 2015-02-04
- 发明人: 大西章申 , 日隈裕洋 , 小林和幸 , 村濑谦悟
- 申请人: 半导体元件工业有限责任公司
- 申请人地址: 美国亚利桑那
- 专利权人: 半导体元件工业有限责任公司
- 当前专利权人: 半导体元件工业有限责任公司
- 当前专利权人地址: 美国亚利桑那
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 秦晨
- 优先权: 2011-133115 2011.06.15 JP
- 主分类号: H03K19/094
- IPC分类号: H03K19/094
摘要:
本发明提供一种半导体集成电路,作为差动输入晶体管的P沟道型MOS晶体管(M1、M2)为了降低噪声水平,具有薄的栅极氧化膜。保护这些P沟道型MOS晶体管(M1、M2)不被过电压损坏的保护电路,构成为包括P沟道型MOS晶体管(M3、M4)。P沟道型MOS晶体管(M3)是保护P沟道型MOS晶体管(M1)不被过电压损坏的第1保护晶体管,串联连接在P沟道型MOS晶体管(M1)的漏极侧。P沟道型MOS晶体管(M4)是保护P沟道型MOS晶体管(M2)不被过电压损坏的第2保护晶体管,串联连接在P沟道型MOS晶体管(M2)的漏极侧。由此,可有效地降低噪声水平。
公开/授权文献
- CN102832925A 半导体集成电路 公开/授权日:2012-12-19
IPC分类: