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发明公开
CN102834775A 曝光装置的制造方法及组件制造方法 有权

  • 专利标题： 曝光装置的制造方法及组件制造方法
  • 专利标题（英）： Manufacturing method of exposure apparatus and device manufacturing method
  • 申请号： CN201180015664.X
    申请日： 2011-02-10
  • 公开(公告)号： CN102834775A
    公开(公告)日： 2012-12-19
  • 发明人: 一之濑刚
  • 申请人： 株式会社尼康
  • 申请人地址： 日本东京
  • 专利权人： 株式会社尼康
  • 当前专利权人： 株式会社尼康
  • 当前专利权人地址： 日本东京
  • 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
  • 代理商 曹瑾
  • 优先权： 61/303,746 2010.02.12 US; 13/022,922 2011.02.08 US
  • 国际申请： PCT/JP2011/053432 2011.02.10
  • 国际公布： WO2011/099646 EN 2011.08.18
  • 进入国家日期： 2012-09-25
  • 主分类号： G03F7/20
  • IPC分类号： G03F7/20
曝光装置的制造方法及组件制造方法
摘要：
本发明的曝光装置的制造方法包含为使机体的计量架的绝对基准面与载台模块的载台位置基准面间的位置关系成为所欲关系，而调整用以决定机体与载台模块间的对接时位置关系的定位装置的动作(步骤412～418)。如此，之后仅需通过定位装置将机体与载台模块加以对接，机体的絶对基准面与载台模块的载台位置基准面间的位置关系即成为所欲关系。
摘要（英）：

A manufacturing method of an exposure apparatus includes adjusting a positioning device that determines a positional relation at the time of docking between a body and a stage module such that a positional relation between an absolute reference surface of a metrology frame of the body and a stage position reference surface of the stage module becomes a desired relation (steps 412 to 418). Accordingly, after that, only by docking the body and the stage module with each other via the positioning device, the positional relation between the absolute reference surface of the body and the stage position reference surface of the stage module becomes a desired relation.

公开/授权文献
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