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发明公开
CN102841513A 光刻设备、投影系统和器件制造方法 有权

光刻设备、投影系统和器件制造方法
摘要：
本发明公开了一种光刻设备(1)，包括：投影系统(7)，其配置成将所述图案化的辐射束(9)投影到衬底的目标部分上；真空室(8)，在使用期间所述图案化的辐射束(9)被投影通过真空室；和净化系统(13、16、17)，其配置成在所述室(8)内提供净化气体流。
摘要（英）：

A lithographic apparatus (1) is disclosed that includes a projection system (7) configured to project a patterned radiation beam (9) onto a target portion of a substrate, a vacuum chamber (8) through which the patterned beam of radiation (9) is projected during use, and a purge (13, 16, 17) system configured to provide a purge gas flow in the chamber (8).

公开/授权文献
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