- 专利标题: 金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法
-
申请号: CN201210139727.9申请日: 2012-05-08
-
公开(公告)号: CN102851729B公开(公告)日: 2016-04-06
- 发明人: 李贻杰
- 申请人: 上海超导科技股份有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区芳春路400号1幢3层301-15室
- 专利权人: 上海超导科技股份有限公司
- 当前专利权人: 上海超导科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区芳春路400号1幢3层301-15室
- 代理机构: 上海信好专利代理事务所
- 代理商 张妍
- 主分类号: C25F3/16
- IPC分类号: C25F3/16 ; C25F7/00
摘要:
一种金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法,该装置包含依次顺序设置的超声波粗洗槽、第一漂洗槽、电解抛光槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽和烘干箱,超声波粗洗槽之前设置放带盘,烘干箱之后设置收带盘。使水通入超声波粗洗槽、第一漂洗槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽,并使水面没过基带,使电解液循环通入电解抛光槽,并使电解抛光槽的电解液没过基带,开启步进电机,驱动基带匀速运动,进行连续电解抛光。本发明结构简单,设计合理,制造成本低,适宜于批量化的抛光生产,能够实现公里级基带的连续电解抛光,抛光后的合金基带的均方根粗糙度低于2纳米。
公开/授权文献
- CN102851729A 金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法 公开/授权日:2013-01-02