Invention Grant
- Patent Title: 适用于GCT器件的阶梯型平面终端结构及其制备方法
- Patent Title (English): Trap cut plane terminal structure suitable for GCT (gate commutation transistor) device and preparation method thereof
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Application No.: CN201210376053.4Application Date: 2012-09-29
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Publication No.: CN102891173BPublication Date: 2015-02-18
- Inventor: 王彩琳 , 王一宇
- Applicant: 西安理工大学
- Applicant Address: 陕西省西安市金花南路5号
- Assignee: 西安理工大学
- Current Assignee: 西安理工大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市金花南路5号
- Agency: 西安弘理专利事务所
- Agent 李娜
- Main IPC: H01L29/744
- IPC: H01L29/744 ; H01L29/36 ; H01L21/332
Abstract:
本发明公开了一种适用于GCT器件的阶梯型平面终端结构,在芯片的中央区域为有源区,外围区域为终端区,有源区和终端区共同的n-衬底下方依次为n型FS层、p+阳极区及其阳极电极;在有源区中,n-基区中设置有多个并联的单元,每个单元内与n-基区相邻的是波状p-基区,p-基区上面为p+基区,p+基区中间位置设置有一个n+发射区,每个n+发射区上方设置有阴极电极;p+基区上方设置有一个门极电极;在终端区的n-衬底内,设有与有源区内主结的p基区弯曲处相连的两级阶梯型的p型延伸区。本发明还公开了上述的阶梯型平面终端结构的制备方法。本发明的结构有效实现了击穿电压和终端面积的最佳折衷。
Public/Granted literature
- CN102891173A 适用于GCT器件的阶梯型平面终端结构及其制备方法 Public/Granted day:2013-01-23
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IPC分类: