发明授权
CN102938382B 阵列基板制造方法及阵列基板、显示装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 阵列基板制造方法及阵列基板、显示装置
- 专利标题(英): Array substrate manufacturing method, array substrate and display device
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申请号: CN201210404598.1申请日: 2012-10-22
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公开(公告)号: CN102938382B公开(公告)日: 2015-02-04
- 发明人: 曹占锋 , 戴天明 , 姚琪
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: H01L21/48
- IPC分类号: H01L21/48 ; H01L23/50
摘要:
本发明公开了一种阵列基板制造方法及阵列基板、显示装置,涉及显示领域,可降低信号线发生断线不良的概率,从而提高产品的良品率,尤其适用于窄线宽的高分辨率产品。本发明所述阵列基板制造方法,包括:在信号线所在层之上再形成一层修复薄膜,所述修复薄膜为透明导电的掺杂半导体薄膜或者透明绝缘的半导体薄膜;进行转化处理,使第一区域的修复薄膜呈现导电状态,除第一区域之外其余区域的修复薄膜呈现绝缘状态,所述第一区域为对应信号线所在的区域。本发明所述阵列基板,包括:显示单元和信号线,在信号线所在层之上设置有修复薄膜,且,修复薄膜在第一区域呈现导电状态,在除所述第一区域之外其余区域呈现绝缘状态。
公开/授权文献
- CN102938382A 阵列基板制造方法及阵列基板、显示装置 公开/授权日:2013-02-20
IPC分类: