一种掩膜板及其制造方法,阵列基板的制造方法
摘要:
本发明实施例提供一种掩膜板及其制造方法,阵列基板的制造方法,涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域,能够增加扇出导线区需显影掉的光刻胶的量,降低显影液的浓度,以避免扇出导线区域附近的TFT在刻蚀后丧失开关特性,提高了产品的良品率。本发明的掩膜板,包括基板,设置于基板上的第一图案区及第二图案区,第二图案区包括部分透射区域和全透射区域,当刻蚀扇出导线区的源漏极层时,部分透射区域使得涂覆在源漏极层上的光刻胶显影后形成光刻胶部分保留区域,全透射区域使得涂覆在源漏极层上的光刻胶显影后形成光刻胶完全去除区域,光刻胶部分保留区域对应于扇出导线,光刻胶完全去除区域对应于扇出导线之间的间隔。
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