本发明公开了一种具有台阶的衬底的光刻方法，其包括如下步骤：步骤一，在衬底表面涂光刻胶，将曝光机的焦点设置在台阶底部位置，而后采用光刻掩膜版进行曝光；步骤二，在步骤一中的光刻胶上再涂一光刻胶层，之后将所述曝光机的焦点设置在所述光刻胶层表面，进行全面曝光；步骤三，对所述衬底进行加热处理，使形成的光酸扩散均匀，所述加热处理的温度小于所述光刻胶分解的温度；步骤四，对衬底进行显影，形成最终图形。采用本发明的光刻方法，使最终光刻胶形貌更接近于设计需求。