发明授权
- 专利标题： 氧化硅用研磨剂、其用途以及研磨方法
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申请号： CN201210434219.3申请日： 2006-11-09
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公开(公告)号： CN102965025B公开(公告)日： 2014-10-29
- 发明人: 西山雅也 , 深泽正人 , 阿久津利明 , 榎本和宏 , 芦泽寅之助 , 大槻裕人
- 申请人： 日立化成株式会社
- 申请人地址： 日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号
- 专利权人： 日立化成株式会社
- 当前专利权人： 日立化成株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号
- 代理机构： 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 金鲜英; 王未东
- 优先权： 2005-327422 2005.11.11 JP
- 分案原申请号： 2006800420162 2006.11.09
- 主分类号： H01L21/304
- IPC分类号： H01L21/304
摘要：
本发明涉及一种氧化硅用研磨剂、其用途以及研磨方法。本发明的氧化硅用研磨剂为用于研磨多晶硅上的氧化硅膜的研磨剂，包括研磨粒、多晶硅研磨抑制剂及水，所述多晶硅研磨抑制剂包括从聚乙烯吡咯烷酮或者含有乙烯吡咯烷酮的共聚物选出的聚乙烯吡咯烷酮类。
公开/授权文献
- CN102965025A 氧化硅用研磨剂、其用途以及研磨方法 公开/授权日：2013-03-13
IPC分类:
