发明授权
- 专利标题： 从曝光结果改进光学邻近模拟的方法
- 专利标题（英）： Method for improving optical proximity simulation from exposure result
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申请号： CN201210174744.6申请日： 2012-05-31
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公开(公告)号： CN103019027B公开(公告)日： 2014-07-30
- 发明人: 黄登烟
- 申请人： 南亚科技股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾桃园县
- 专利权人： 南亚科技股份有限公司
- 当前专利权人： 南亚科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾桃园县
- 代理机构： 深圳新创友知识产权代理有限公司
- 代理商 江耀纯
- 优先权： 13/239,409 2011.09.22 US
- 主分类号： G03F1/36
- IPC分类号： G03F1/36 ; G03F7/20
摘要：
本发明公开了一种用以改进光学邻近模拟的方法，其包含下列步骤：首先，判定多个曝光数据；提供对应所述曝光数据且从多个原始模拟参数中产生的一原始模拟结果。之后，检验来自所述原始模拟结果与所述曝光结果的原始误差值来判定其是否位于一预定范围内。接下来，所述原始模拟参数会被调整来获得调整后的模拟参数。所述调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟参数会被收集来获得一用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。
公开/授权文献
- CN103019027A 从曝光结果改进光学邻近模拟的方法 公开/授权日：2013-04-03
