发明公开
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法、显示装置
- 专利标题(英): Array substrate and manufacturing method thereof as well as display device
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申请号: CN201210475875.8申请日: 2012-11-21
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公开(公告)号: CN103022031A公开(公告)日: 2013-04-03
- 发明人: 范昭奇 , 刘同军 , 段献学 , 杨成绍 , 邓立赟
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 安利霞
- 主分类号: H01L27/02
- IPC分类号: H01L27/02 ; H01L29/786 ; H01L21/77
摘要:
本发明提供了一种阵列基板及制作方法、显示装置,通过在GOA区域中,刻蚀掉的薄膜晶体管连接区域的栅极绝缘层、有源半导体层,而使薄膜晶体管连接区域中的透明导电层直接与薄膜晶体管的栅极引线、欧姆接触层、源漏极引出线以及基板直接接触,从而可减少的薄膜晶体管连接区域的透明导电层发生开裂的情况,而在GOA区域中薄膜晶体管所在区域,通过在欧姆接触层与有源半导体层之间增设绝缘阻挡层,从而避免薄膜晶体管发生沟道断开的现象。
公开/授权文献
- CN103022031B 阵列基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日:2015-03-04
IPC分类: