本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其为包含以Co作为主要成分的金属和非金属无机材料粒子的烧结体溅射靶，其特征在于，存在饱和磁化强度不同的多个金属相，并且在各个金属相中分散有非金属无机材料粒子。本发明的课题在于，通过增大溅射靶的漏磁通，可以得到能够得到稳定的放电，并且在磁控溅射装置中，可以得到稳定的放电，并且溅射时的粉粒产生少的强磁性材料溅射靶，磁记录介质的磁性体薄膜、特别是采用垂直磁记录方式的硬盘的磁记录层的成膜中使用的强磁性材料溅射靶。