本发明公开了一种镀膜速率的精确标定方法及其应用，方法为：制备包括衬底和干涉膜的标准基片；制备方法为：在衬底上引入一层足以形成干涉的干涉膜；测量标准基片的透射谱或反射谱；将待测速率薄膜镀制在标准基片上一段时间；测量镀膜后的标准基片的透射谱或反射谱；比较镀膜前后透射谱或反射谱，根据峰位的变化量计算出镀膜厚度从而计算出镀膜速率。本发明在衬底上预先引入一层足以形成干涉的干涉膜，在此基础上，只要在标准基片上镀制厚度极薄的待测薄膜，即可引起干涉峰位的明显偏移，远远高于传统方法直接在衬底上镀制待测薄膜前后透射谱的强度变化，可以显著提升标定精度，特别适用于在线检测和实时监控，尤其适合对超低镀膜速率的精确标定。