发明授权
- 专利标题： 一种曝光投影物镜
- 专利标题（英）： Exposure projection objective lens
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申请号： CN201110353594.0申请日： 2011-11-10
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公开(公告)号： CN103105666B公开(公告)日： 2015-04-15
- 发明人: 武珩
- 申请人： 上海微电子装备有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
- 专利权人： 上海微电子装备有限公司
- 当前专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
- 代理机构： 北京连和连知识产权代理有限公司
- 代理商 王光辉
- 主分类号： G02B13/22
- IPC分类号： G02B13/22 ; G02B13/00 ; G02B1/00 ; G03F7/20
摘要：
本发明提出一种曝光投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；一具有正光焦度的第四透镜组G14；所述第四透镜组G14内包含一孔径光阑AS；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15；其中，所述各透镜组满足以下关系：-0.3
公开/授权文献
- CN103105666A 一种曝光投影物镜 公开/授权日：2013-05-15
