发明授权
- 专利标题: 光刻机设备用离轴照明装置
- 专利标题(英): Off-axis illuminating device for photoetching machine equipment
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申请号: CN201310096136.2申请日: 2013-03-22
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公开(公告)号: CN103149809B公开(公告)日: 2014-12-17
- 发明人: 杨宝喜 , 宋强 , 朱菁 , 陈明 , 胡中华 , 肖艳芬 , 刘蕾 , 王俊 , 张方 , 黄惠杰
- 申请人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 申请人地址: 上海市嘉定区800-211邮政信箱
- 专利权人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 当前专利权人: 北京国望光学科技有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市嘉定区800-211邮政信箱
- 代理机构: 上海新天专利代理有限公司
- 代理商 张泽纯
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G02B27/09 ; G02B27/28
摘要:
一种光刻机设备用离轴照明装置,其特点在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元、变焦准直镜组、四分之一波片、负轴锥镜、45°旋光片和正轴锥镜;所述的照明单元由准分子激光器和扩束准直镜组组成。本发明对光刻机可实现双环照明,双二极照明,双四极照明。
公开/授权文献
- CN103149809A 光刻机设备用离轴照明装置 公开/授权日:2013-06-12
IPC分类: