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冷壁流化床及其应用
Abstract:
本发明涉及一种冷壁流化床及其应用,属于多晶硅制备技术领域。其提供一种以改进的冷壁流化床,及以其为设备,用三氯氢硅(SiHCl3)和H2为原料,在冷壁流化床内,高温加压下发生还原反应,制备高纯度颗粒状太阳能级多晶硅。本发明以此冷壁流化床为基础,制备高纯度颗粒状太阳能级多晶硅,其生产过程简单方便,适于工业化生产。
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