- 专利标题: 可挠性基板及其制作方法与电子元件的封装体的制作方法
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申请号: CN201210029914.1申请日: 2012-02-10
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公开(公告)号: CN103178215B公开(公告)日: 2015-12-16
- 发明人: 陈光荣 , 魏小芬 , 陈良湘 , 施秉彝
- 申请人: 财团法人工业技术研究院
- 申请人地址: 中国台湾新竹县
- 专利权人: 财团法人工业技术研究院
- 当前专利权人: 瀚宇彩晶股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹县
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 陈小雯
- 优先权: 100148313 2011.12.23 TW
- 主分类号: H01L51/56
- IPC分类号: H01L51/56 ; H01L51/52
摘要:
本发明公开一种可挠性基板的制作方法与环境敏感电子元件的封装体的制作方法。可挠性基板的制作方法包括:提供一承载器。承载器上已形成有一材料层,且材料层具有彼此相对的上表面与下表面以及多个由上表面朝向下表面延伸的凹陷部。形成一离型层于材料层的上表面上,其中离型层与材料层共形。涂布一混合聚合物层于离型层上,其中混合聚合物层中具有多个散射粒子。进行一沉降步骤,以使混合聚合物层中的散射粒子沉降至混合聚合物层的底部,以与离型层直接接触。使混合聚合物层与承载器分离,而形成一具有多个突出部且部分散射粒子暴露于突出部之外的可挠性基板。
公开/授权文献
- CN103178215A 可挠性基板及其制作方法与电子元件的封装体的制作方法 公开/授权日:2013-06-26
IPC分类: