发明授权
- 专利标题： 屏蔽盖和屏蔽结构
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申请号： CN201180050980.0申请日： 2011-10-20
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公开(公告)号： CN103181253B公开(公告)日： 2016-01-06
- 发明人: 足立英臣 , 久保嶋秀彦
- 申请人： 矢崎总业株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 矢崎总业株式会社
- 当前专利权人： 矢崎总业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 北京奉思知识产权代理有限公司
- 代理商 吴立; 邹轶鲛
- 优先权： 2010-236986 2010.10.22 JP
- 国际申请： PCT/JP2011/074737 2011.10.20
- 国际公布： WO2012/053662 EN 2012.04.26
- 进入国家日期： 2013-04-22
- 主分类号： H05K9/00
- IPC分类号： H05K9/00
摘要：
本发明旨在提供一种能够根据电磁屏蔽装置而改进的屏蔽盖和屏蔽结构。通过加工导电板而形成的可滑动的屏蔽盖包括前屏蔽部、后屏蔽部、侧屏蔽部、连接部、入口和容纳空间，并且覆盖作为屏蔽对象的线束（11）。该屏蔽盖在横截面上形成为U形。该屏蔽结构包括屏蔽盖以及与该屏蔽盖接合的壁状屏蔽盖。
公开/授权文献
- CN103181253A 屏蔽盖和屏蔽结构 公开/授权日：2013-06-26
