- 专利标题: 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示装置
- 专利标题(英): Thin film transistor, manufacturing method thereof, array substrate and display device
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申请号: CN201310123609.3申请日: 2013-04-10
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公开(公告)号: CN103227208A公开(公告)日: 2013-07-31
- 发明人: 袁广才
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 杜秀科
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; H01L29/43 ; H01L21/336
摘要:
本发明涉及薄膜晶体管显示技术领域,公开了一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示装置,所述薄膜晶体管包括栅电极、有源层和源/漏电极,以及位于所述栅电极和有源层之间的栅绝缘层,其中:所述栅电极包括栅电极金属层和第一组保护层,所述第一组保护层位于栅电极金属层和栅绝缘层之间,将有源层和栅电极金属层隔离;所述栅电极金属层的材质为铜或铜合金。采用本发明技术方案,由于第一组保护层对栅电极金属层和有源层隔离开,因此,避免了铜扩散污染有源层,大大提高了产品的良率。
公开/授权文献
- CN103227208B 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示装置 公开/授权日:2016-12-28
IPC分类: