发明公开
- 专利标题: 气体精制方法
- 专利标题(英): Gas purification method
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申请号: CN201280004319.0申请日: 2012-03-21
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公开(公告)号: CN103282099A公开(公告)日: 2013-09-04
- 发明人: 足立贵义 , 桥本幸惠
- 申请人: 大阳日酸株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 大阳日酸株式会社
- 当前专利权人: 大阳日酸株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 2011-077041 2011.03.31 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/057088 2012.03.21
- 国际公布: WO2012/133007 JA 2012.10.04
- 进入国家日期: 2013-06-25
- 主分类号: B01D53/02
- IPC分类号: B01D53/02 ; B01D53/04 ; B01J20/18 ; B01J20/34
摘要:
一种气体精制方法,在将精制对象气体中所含的作为杂质的二氧化碳、水吸附去除时,该方法能够减少吸附剂的量、将吸附筒大幅度地小型化、可减少再生气体量、能够削减运行成本,所述方法使包含分压为35Pa以下的二氧化碳作为杂质的精制对象气体与加热再生温度设定为160℃以上且240℃以下的、由阳离子为钠的八面沸石组成的吸附剂接触,吸附去除二氧化碳。另外,还有一种气体精制方法,其使精制对象气体与在300℃以上进行了初始活化的由阳离子为锂的八面沸石组成的吸附剂接触,吸附去除二氧化碳,在240℃以下进行加热再生。
公开/授权文献
- CN103282099B 气体精制方法 公开/授权日:2016-01-13
IPC分类: