Invention Grant
- Patent Title: 含双酚A骨架结构的分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用
- Patent Title (English): Molecular glass photoresist containing bisphenol A skeleton structure as well as preparation method and application thereof
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Application No.: CN201210156675.6Application Date: 2012-05-18
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Publication No.: CN103304385BPublication Date: 2015-04-15
- Inventor: 杨国强 , 许箭 , 陈力 , 王双青 , 李沙瑜
- Applicant: 中国科学院化学研究所
- Applicant Address: 北京市海淀区中关村北一街2号
- Assignee: 中国科学院化学研究所
- Current Assignee: 国科天骥(北京)新材料技术有限责任公司
- Current Assignee Address: 北京市海淀区中关村北一街2号
- Agency: 北京智汇东方知识产权代理事务所
- Agent 康正德; 范晓斌
- Main IPC: C07C43/205
- IPC: C07C43/205 ; C07C41/30 ; C07C39/15 ; C07C37/055 ; C07C69/96 ; C07C68/06 ; C07C43/21 ; C07C39/17 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/16 ; G03F7/20
Abstract:
本发明涉及一系列基于双酚A为主体结构的分子玻璃光刻胶（I和II）及其制备。将该分子玻璃光刻胶与光酸产生剂、交联剂、光刻胶溶剂和其他添加剂复配成正性或负性光刻胶，在硅片上通过旋涂法可制得厚度均匀的光刻胶涂层。该光刻胶配方可用于248nm光刻、193nm光刻、极紫外光刻、纳米压印光刻及电子束光刻等现代光刻技术中，尤其适合使用于极紫外（EUV）光刻工艺中。
Public/Granted literature
- CN103304385A 含双酚A骨架结构的分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用 Public/Granted day:2013-09-18
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