发明公开
CN103328686A 采用等离子体聚合预处理对物件的金属涂覆
无效 - 撤回
- 专利标题: 采用等离子体聚合预处理对物件的金属涂覆
- 专利标题(英): Metal coating of objects using plasma polymerisation
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申请号: CN201180054110.0申请日: 2011-11-16
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公开(公告)号: CN103328686A公开(公告)日: 2013-09-25
- 发明人: 思文·歌德 , 比约恩·阿特霍夫 , 卡尔-贡纳·拉尔森
- 申请人: 凯普卓尼克技术公司
- 申请人地址: 塞浦路斯利马索尔
- 专利权人: 凯普卓尼克技术公司
- 当前专利权人: 凯普卓尼克技术公司
- 当前专利权人地址: 塞浦路斯利马索尔
- 代理机构: 上海旭诚知识产权代理有限公司
- 代理商 郑立; 高为华
- 优先权: 1051201-0 2010.11.16 SE; 61/414,116 2010.11.16 US
- 国际申请: PCT/EP2011/070213 2011.11.16
- 国际公布: WO2012/066018 EN 2012.05.24
- 进入国家日期: 2013-05-09
- 主分类号: C23C18/16
- IPC分类号: C23C18/16 ; C23C18/18 ; C23C18/20 ; H05K3/18
摘要:
一种在基底上施加金属的方法,包含:a)在等离子体中处理以涂覆涂层,所述等离子体包含选自于不饱和单体和多达10个碳原子的烷烃类中的化合物,和b1)在所述基底的表面上生成聚合物,所述聚合物包含羧基和吸附的第二金属的离子,还原所述离子为第二金属,或替代地b2)在表面上生成聚合物,将所述基底的表面与至少一种第二金属的胶态金属颗粒的分散体接触,和c)在所述第二金属上沉积所述第一金属。优势包括可以涂覆对例如低pH或溶剂敏感的材料。包含玻璃、几乎不含有不可提取的氢原子的SiO2以及含有卤素原子的聚合材料的基底具有良好的涂覆附着力。
IPC分类: