- 专利标题： 层压用水系基底处理剂和基底处理方法以及基底处理材料
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申请号： CN201310145716.6申请日： 2013-04-24
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公开(公告)号： CN103374265B公开(公告)日： 2017-09-29
- 发明人: 桥本大祐 , 渡边拓郎
- 申请人： 昭和电工包装株式会社
- 申请人地址： 日本神奈川县
- 专利权人： 昭和电工包装株式会社
- 当前专利权人： 株式会社乐索纳克包装
- 当前专利权人地址： 日本滋贺县
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理商 段承恩; 田欣
- 优先权： 098507/2012 20120424 JP
- 主分类号： C09D105/08
- IPC分类号： C09D105/08 ; C09D7/12 ; B32B15/04 ; H01M2/02
摘要：
本发明提供层压用水系基底处理剂和基底处理方法以及基底处理材料。本发明涉及的层压用水系基底处理剂含有壳聚糖衍生物、分子内具有至少1个羧基的羧基化合物和水，壳聚糖衍生物/羧基化合物的含有质量比为1.0/0.5～1.0/3.0的范围。本发明的层压用水系基底处理剂可以形成耐HF性、耐电解质性和耐溶剂性优异，并且可以长期充分地确保在汽车用锂离子二次电池等的壳体用包装材料、极耳引线等所要求的更苛刻环境下的层压密合性的基底皮膜。
公开/授权文献
- CN103374265A 层压用水系基底处理剂和基底处理方法以及基底处理材料 公开/授权日：2013-10-30
IPC分类:
