发明公开
- 专利标题: 薄膜晶体管
- 专利标题(英): Semiconductor devices and methods for fabricating the same
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申请号: CN201310126339.1申请日: 2013-04-12
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公开(公告)号: CN103378165A公开(公告)日: 2013-10-30
- 发明人: 林志勋 , 安秉斗 , 金建熙 , 朴埈贤 , 李制勋 , 朴在佑 , 金大奂 , 郑贤广 , 金在亨
- 申请人: 三星显示有限公司 , 国民大学校算学协力团
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星显示有限公司,国民大学校算学协力团
- 当前专利权人: 三星显示有限公司,国民大学校算学协力团
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 屈玉华
- 优先权: 10-2012-0039237 2012.04.16 KR
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786
摘要:
一种薄膜晶体管包括:栅电极;设置为覆盖栅电极的第一绝缘层;半导体层,设置在第一绝缘层上,该半导体层包括第一侧表面部分;源电极,设置在半导体层上;以及漏电极,设置在第一绝缘层上,该漏电极包括第二侧表面部分。第一侧表面部分与第二侧表面部分接触。
公开/授权文献
- CN103378165B 薄膜晶体管 公开/授权日:2018-12-11
IPC分类: