发明公开
CN103411335A 辐射吸收层基于混合物的选择性吸收膜系
无效 - 撤回
- 专利标题: 辐射吸收层基于混合物的选择性吸收膜系
- 专利标题(英): Selective absorbing film set of radiation absorbing layer based on mixture
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申请号: CN201310326560.1申请日: 2013-07-30
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公开(公告)号: CN103411335A公开(公告)日: 2013-11-27
- 发明人: 陆卫 , 王晓芳 , 俞立明 , 王少伟 , 陈飞良 , 刘星星 , 简明 , 陈效双
- 申请人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 申请人地址: 上海市虹口区玉田路500号
- 专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人地址: 上海市虹口区玉田路500号
- 代理机构: 上海新天专利代理有限公司
- 代理商 郭英
- 主分类号: F24J2/48
- IPC分类号: F24J2/48 ; C23C14/06 ; B32B9/04
摘要:
本发明公开了辐射吸收层基于混合物的选择性吸收膜系,其混合物由高吸收材料和透明材料混合而成。该吸收膜系包括:金属衬底、在衬底上依次沉积的辐射吸收层基于混合物的选择性吸收薄膜、减反射介质薄膜、保护薄膜。本发明的吸收膜系通过调节膜系的材料,涂层厚度,混合膜层成份,尺寸,形状等参数,灵活控制吸收膜性能。可以在保持高吸收率和低发射率的前提下,满足太阳能热水器、太阳能空调等光热产品的多样化和个性化需求。本发明吸收膜系的特点是结构简单,适用于各种工艺制备,对太阳能选择性吸热膜领域的发展有着十分重要的意义。