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发明授权
CN103424957B 窗结构及其制造方法、电子设备及其制造方法 有权

窗结构及其制造方法、电子设备及其制造方法
摘要：
本发明提供一种窗结构及其制造方法、电子设备及其制造方法。该窗结构包括窗、窗上的设计层结构、设计层结构上的遮光层，以及光吸收层。设计层结构包括暴露窗的一部分的第一孔。遮光层包括与第一孔流体连通的第二孔。光吸收层至少覆盖设计层结构的被第一孔和第二孔暴露的部分，并且包括暴露所述窗的一部分的第三孔。通过包括具有灰色或黑色的光吸收层来覆盖设计层结构的暴露的部分，防止由设计层结构引起的关于图像的晕影。
摘要（英）：

A window structure includes a window, a design layer structure on the window, a light shield layer on the design layer structure, and a light absorption layer. The design layer structure includes a first hole exposing a portion of the window. The light shield layer includes a second hole in fluid communication with the first hole. The light absorption layer covers at least a portion of the design layer structure exposed by the first and second holes, and includes a third hole exposing a portion of the window. By including the light absorption layer of a gray or black colour to cover exposed portions of the design layer structure, a vignette about an image caused by the design layer structure is prevented.

公开/授权文献
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