发明公开
- 专利标题: 用于在低pO2气氛中可获得的陶瓷装置的烧结添加剂
- 专利标题(英): Sintering additives for ceramic devices obtainable in a low pO2 atmosphere
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申请号: CN201280014872.2申请日: 2012-03-09
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公开(公告)号: CN103460479A公开(公告)日: 2013-12-18
- 发明人: S.拉莫斯塞 , T.克勒门索 , H.P.拉森
- 申请人: 丹麦技术大学
- 申请人地址: 丹麦灵比
- 专利权人: 丹麦技术大学
- 当前专利权人: 丹麦技术大学
- 当前专利权人地址: 丹麦灵比
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 赵胜宝; 李进
- 优先权: 11002478.3 2011.03.24 EP
- 国际申请: PCT/EP2012/001065 2012.03.09
- 国际公布: WO2012/126579 EN 2012.09.27
- 进入国家日期: 2013-09-24
- 主分类号: H01M8/12
- IPC分类号: H01M8/12 ; H01M4/88 ; C04B35/462 ; C04B35/486 ; C04B35/50 ; C04B35/44 ; C04B35/64 ; B01D53/22 ; B01D69/12 ; B01D71/02 ; B01D67/00 ; C23C28/00 ; C01B13/02
摘要:
本发明提供在低pO2气氛中生产陶瓷装置的方法,其包括以下步骤:-提供包含基底材料和过渡金属的组合物,其中用于第一层的基底材料选自锆酸盐、铈酸盐、钛酸盐、镧酸盐、铝酸盐、掺杂氧化锆和/或掺杂二氧化铈,其中掺杂物选自Ca、Ga、Sc、Y,和镧系元素;-形成所述组合物的第一层,其中所述第一层为电解质层;-在所述第一层的一面或两面上形成至少一个电极层或电极前体层;和-在低pO2气氛中烧结多层结构;其特征在于:-过渡金属的量为基于第一层的组合物计的0.01-4mol%;-氧气分压pO2为10-14Pa或更少;和-烧结温度在700-1600℃范围内。