经表面处理的玻璃基体的制造方法
摘要:
在短时间内有效地制得具有折射率低的性能优异的低折射率层的玻璃基体。在将玻璃基体的玻璃化转变温度设为Tg的情形下,在该玻璃基体的温度为400℃~Tg+60℃的范围内,通过使含有结构中存在氟原子的分子的气体或液体与运送中的玻璃基体接触来进行所述表面处理而制造玻璃基体。
公开/授权文献
0/0