发明授权
- 专利标题: 一种纳米场发射电子源及其制备方法
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申请号: CN201210208647.4申请日: 2012-06-21
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公开(公告)号: CN103515169B公开(公告)日: 2016-08-03
- 发明人: 李冬松 , 章健
- 申请人: 上海联影医疗科技有限公司
- 申请人地址: 上海市嘉定区嘉定工业区兴贤路1180号8幢
- 专利权人: 上海联影医疗科技有限公司
- 当前专利权人: 上海联影医疗科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市嘉定区嘉定工业区兴贤路1180号8幢
- 代理机构: 上海申汇专利代理有限公司
- 代理商 金碎平
- 主分类号: H01J9/02
- IPC分类号: H01J9/02 ; H01J1/304
摘要:
本发明公开了一种纳米场发射电子源及其制备方法,所述制备方法包括如下步骤:a)将纳米材料与模板材料共同混合在溶液中形成一种混合物;b)将所述混合物沉积到基底上,形成纳米场发射阴极;c)通过清洗方法洗去所述纳米场发射阴极中的模板材料,并置于烘箱中干燥,获得三维多孔结构的纳米场发射电子源。本发明方法制得的纳米场发射电子源具有较高粗糙度,高比表面积的三维多孔网状纳米薄膜,以产生更高的有效发射面积,同时增大了整体结构的冗余度,从而大大提高了场发射电子源的耐用度和使用寿命,降低使用成本。
公开/授权文献
- CN103515169A 一种纳米场发射电子源及其制备方法 公开/授权日:2014-01-15