发明授权
CN103515503B 一种垂直结构发光二极管及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种垂直结构发光二极管及其制造方法
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申请号: CN201210219222.3申请日: 2012-06-28
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公开(公告)号: CN103515503B公开(公告)日: 2017-10-17
- 发明人: 张楠 , 郝茂盛
- 申请人: 上海蓝光科技有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区芳春路400号
- 专利权人: 上海蓝光科技有限公司
- 当前专利权人: 上海蓝光科技有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区芳春路400号
- 代理机构: 上海光华专利事务所
- 代理商 李仪萍
- 主分类号: H01L33/32
- IPC分类号: H01L33/32 ; H01L33/04 ; H01L33/00
摘要:
本发明提供一种垂直结构发光二极管及其制造方法,于半导体衬底上依次形成N‑GaN层、量子阱层、P‑GaN层及第一透明导电层,然后刻蚀出多个孔道并制备绝缘侧壁,同时在第一透明导电层上制备绝缘层,接着于各孔道填充电极材料使其与N‑GaN层形成欧姆接触并同时于所述绝缘层上形成电极材料层,然后将所述电极材料层与导电支撑衬底进行键合,导电支撑衬底为芯片的N电极部分,剥离半导体衬底,从N‑GaN层开始刻蚀至所述第一透明导电层,最后制备P电极以完成制备。本发明将通常的垂直结构异侧电极制作在芯片的同侧,简化工艺;点状电极有利于大电流下芯片电流的扩散,使电流密度分布更均匀,有效的提高了发光二极管的发光效率,并提高了发光二极管的寿命。
公开/授权文献
- CN103515503A 一种垂直结构发光二极管及其制造方法 公开/授权日:2014-01-15
IPC分类: