发明公开
CN103518161A 投射装置和投射控制装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 投射装置和投射控制装置
- 专利标题(英): Projection device and projection control device
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申请号: CN201280020654.X申请日: 2012-04-19
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公开(公告)号: CN103518161A公开(公告)日: 2014-01-15
- 发明人: 仓重牧夫 , 谷口幸夫 , 大八木康之
- 申请人: 大日本印刷株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 大日本印刷株式会社
- 当前专利权人: 大日本印刷株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 何欣亭; 王忠忠
- 优先权: 2011-101348 2011.04.28 JP; 2011-277134 2011.12.19 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/060632 2012.04.19
- 国际公布: WO2012/147627 JA 2012.11.01
- 进入国家日期: 2013-10-28
- 主分类号: G03B21/00
- IPC分类号: G03B21/00 ; G02B27/48 ; G03B21/14 ; G03H1/02 ; G03H1/32
摘要:
提供能够避免来自外部的紫外光所导致的坏影响的投射装置。投射装置(20)具备光学元件(50)、照射装置(60)、光调制器(30)、中间光学系统(70)以及投射光学系统(80)。投射装置(20),由扫射器件(65)利用相干光在全息图记录介质(55)上扫射,将由全息图记录介质(55)漫射的相干光入射至中间光学系统(70),由该中间光学系统(70)抑制相干光的发散角,然后,对被照明区域(LZ)进行照明。由此,能够降低由全息图记录介质(55)漫射的相干光中的未利用于被照明区域(LZ)的照明的相干光的比例,能谋求被照明区域(LZ)的照明强度的提高。
公开/授权文献
- CN103518161B 投射装置和投射控制装置 公开/授权日:2015-11-25