发明公开
- 专利标题： 高长宽比电路图形及其制作方法
- 专利标题（英）： Circuit pattern with high aspect ratio and method of manufacturing same
-
申请号： CN201210574707.4申请日： 2012-12-26
-
公开(公告)号： CN103579240A公开(公告)日： 2014-02-12
- 发明人: 俞建安 , 林义峰
- 申请人： 南亚科技股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾桃园县
- 专利权人： 南亚科技股份有限公司
- 当前专利权人： 南亚科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾桃园县
- 代理机构： 深圳新创友知识产权代理有限公司
- 代理商 江耀纯
- 优先权： 13/570,253 2012.08.09 US
- 主分类号： H01L27/108
- IPC分类号： H01L27/108 ; H01L21/8242
摘要：
本发明公开了一种制作高长宽比电路图形的方法，其步骤包含形成多条并行线以及与该些并行线相交的支撑线、在该些并行线与支撑线之间形成支撑性绝缘结构，用以在后续的刻蚀工艺中支撑该些并行线、以及在该刻蚀工艺后切断该些并行线与支撑线之间的连接。
公开/授权文献
- CN103579240B 高深宽比电路图形及其制作方法 公开/授权日：2016-12-28
IPC分类:
