发明授权
- 专利标题: 芯片尺寸级晶圆发光二极管的制作方法
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申请号: CN201310585931.8申请日: 2013-11-19
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公开(公告)号: CN103579423B公开(公告)日: 2016-03-09
- 发明人: 谢海忠 , 张连 , 宋昌斌 , 姚然 , 薛斌 , 杨华 , 李璟 , 伊晓燕 , 王军喜 , 李晋闽
- 申请人: 中国科学院半导体研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区清华东路甲35号
- 专利权人: 中国科学院半导体研究所
- 当前专利权人: 中国科学院半导体研究所
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华东路甲35号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 宋焰琴
- 主分类号: H01L33/00
- IPC分类号: H01L33/00
摘要:
一种芯片尺寸级晶圆发光二极管的制作方法,包括:在衬底的表面打两个通孔;在衬底的正反两面蒸镀二氧化硅膜保护膜;将衬底放入浓硫酸和浓磷酸混合液中腐蚀,清洗;去掉衬底表面的二氧化硅膜保护膜;在衬底的一面依次生长N型掺杂层、多量子阱发光层、P型掺杂层和ITO层;在ITO层上一侧向下刻蚀,形成台面,该台面的中心处有一通孔;在台面的通孔的上面制作N型电极;在台面另一侧的ITO层上的通孔上制作P型电极;在台面另一侧的ITO层上的通孔的内壁制作绝缘层;在衬底背面及两个通孔内蒸镀铬金引导层;在衬底背面旋转涂覆光刻胶并做出图形,腐蚀铬金引导层。本发明可以降低了发光二极管的封装成本,特别适合大尺寸功率型发光二极管的封装应用。
公开/授权文献
- CN103579423A 芯片尺寸级晶圆发光二极管的制作方法 公开/授权日:2014-02-12
IPC分类: