Invention Grant
- Patent Title: 具有位错弯曲结构的发光装置
-
Application No.: CN201280013116.8Application Date: 2012-02-11
-
Publication No.: CN103597618BPublication Date: 2016-12-21
- Inventor: R·格斯卡 , 杨锦伟 , M·舒尔
- Applicant: 传感器电子技术股份有限公司
- Applicant Address: 美国南卡罗来纳
- Assignee: 传感器电子技术股份有限公司
- Current Assignee: 传感器电子技术股份有限公司
- Current Assignee Address: 美国南卡罗来纳
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 袁玥
- Priority: 61/441,674 2011.02.11 US 13/370,470 2012.02.10 US
- International Application: PCT/US2012/024774 2012.02.11
- International Announcement: WO2012/109629 EN 2012.08.16
- Date entered country: 2013-09-13
- Main IPC: H01L33/02
- IPC: H01L33/02
Abstract:
本发明提供一种用于减少发射装置的有源区中的位错的数目的解决方案。位错弯曲结构可包括于该发射装置中介于衬底与有源区之间。该位错弯曲结构可被配置以例如归因于足够量的应变的存在而在位错到达该有源区之前使位错弯曲和/或消灭。该位错弯曲结构可包括多个层，而相邻层由一材料构成，但相应材料中的元素的摩尔分数在两层之间存在差异。该位错弯曲结构可包括至少40对相邻层，在相邻层之间元素的摩尔分数相差至少百分之五。
Public/Granted literature
- CN103597618A 具有位错弯曲结构的发光装置 Public/Granted day:2014-02-19
Information query
IPC分类:
