发明授权
CN103614085B 一种高透光抗冲击保护膜及其制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种高透光抗冲击保护膜及其制备方法
- 专利标题(英): Shock resisting protective film with high light transmittance as well as preparation method thereof
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申请号: CN201310593793.8申请日: 2013-11-22
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公开(公告)号: CN103614085B公开(公告)日: 2014-12-31
- 发明人: 陈克勇 , 朱文峰 , 杨忠芝 , 吴建海 , 虞礼森 , 齐东东
- 申请人: 东莞市纳利光学材料有限公司 , 深圳比科斯电子股份有限公司
- 申请人地址: 广东省东莞市黄江镇长龙地华裕街东莞市纳利光学材料有限公司
- 专利权人: 东莞市纳利光学材料有限公司,深圳比科斯电子股份有限公司
- 当前专利权人: 东莞市纳利光学材料有限公司,深圳比科斯电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省东莞市黄江镇长龙地华裕街东莞市纳利光学材料有限公司
- 代理机构: 东莞市华南专利商标事务所有限公司
- 代理商 李玉平
- 主分类号: C09J4/02
- IPC分类号: C09J4/02 ; C09J11/08 ; C09J11/06 ; C09J7/02 ; C09J183/04 ; C09D4/02
摘要:
本发明涉及保护膜技术领域,尤其涉及一种高透光抗冲击保护膜及其制备方法,该保护膜包括主膜层,主膜层上表面设置有软胶层,软胶层上表面设置有抗冲击层,软胶层的胶质材料由以下质量百分比的原料组成:丙烯酸或其酯类单体10-45%、辅助成膜树脂2-15%、有机溶剂60-85%、偶氮类引发剂0.2-2.0%、分散剂0.4-3%;抗冲击层的胶质材料由以下质量百分比的原料组成:丙烯酸或其酯类单体15-37%、辅助成膜树脂2-15%、有机溶剂60-82%、偶氮类引发剂0.2-2.0%。本发明的保护膜的制备工艺简单,可实现工业化,制得的保护膜的透光率高,抗冲击强度高。
公开/授权文献
- CN103614085A 一种高透光抗冲击保护膜及其制备方法 公开/授权日:2014-03-05
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