发明公开
- 专利标题: 一种直接还原过程中脱砷的方法
- 专利标题(英): Method of arsenic removal in direct reduction process
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申请号: CN201310559775.8申请日: 2013-11-12
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公开(公告)号: CN103614554A公开(公告)日: 2014-03-05
- 发明人: 居殿春 , 刘家琪 , 卢军辉 , 吴战芳
- 申请人: 钢铁研究总院
- 申请人地址: 北京市海淀区学院南路76号
- 专利权人: 钢铁研究总院
- 当前专利权人: 钢铁研究总院,钢研晟华工程技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区学院南路76号
- 代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 王兆赓; 戴嵩玮
- 主分类号: C22B5/10
- IPC分类号: C22B5/10 ; C22B30/04
摘要:
本发明公开了一种直接还原过程中脱砷的方法,该方法包括将含砷物料研磨后加入还原剂以及粘结剂混匀、造球,将造好的球团进行烘干处理,并置于还原炉内,通过控制反应温度及炉内气氛,进行直接还原反应,脱砷的同时有价金属也被直接还原。此种方法能够同时实现脱砷及有价金属的还原处理。
公开/授权文献
- CN103614554B 一种直接还原过程中脱砷的方法 公开/授权日:2015-09-30