发明授权
- 专利标题: 狭缝光栅及其制备方法、显示装置
-
申请号: CN201310701254.1申请日: 2013-12-18
-
公开(公告)号: CN103698828B公开(公告)日: 2016-06-08
- 发明人: 王俊伟
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 黄灿
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G02F1/1343 ; G02B27/22
摘要:
本发明涉及显示技术领域,公开了一种狭缝光栅及其制备方法、显示装置。该狭缝光栅通过由不相容的遮光液体和透光液体组成的液体复合层替代液晶分子层,并设置对应像素单元的条形电控介质亚层,利用条形电控介质亚层电致亲遮光液体或疏遮光液体的特性来控制遮光液体和透光液体的分布,在3D显示时,形成狭缝光栅,而在2D显示时,对应显示面板像素单元的区域为全透光,从而可以实现二维/三维可切换功能。由于不需要液晶狭缝光栅的偏光片结构,提高了光线利用率。同时,液体材料层和盒厚要求也比液晶狭缝光栅低,工艺过程相对简单。
公开/授权文献
- CN103698828A 狭缝光栅及其制备方法、显示装置 公开/授权日:2014-04-02