发明授权
- 专利标题: 沟槽栅功率场效应晶体管
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申请号: CN201310745065.4申请日: 2013-12-31
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公开(公告)号: CN103745998B公开(公告)日: 2016-10-26
- 发明人: 魏星 , 徐大伟 , 狄增峰 , 方子韦
- 申请人: 上海新傲科技股份有限公司
- 申请人地址: 上海市嘉定区普惠路200号
- 专利权人: 上海新傲科技股份有限公司
- 当前专利权人: 上海新傲科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市嘉定区普惠路200号
- 代理机构: 上海翼胜专利商标事务所
- 代理商 孙佳胤; 翟羽
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L29/423
摘要:
本发明提供了一种沟槽栅功率场效应晶体管,包括:源极层和漏极层,所述源极层设置在衬底的第一表面,所述漏极层设置在衬底与第一表面相对的第二表面;掺杂阱层,所述掺杂阱层设置在所述源极层和漏极层之间,且与所述源极层和漏极层贴合,所述源极层和漏极层具有第一导电类型,所述掺杂阱层具有第二导电类型;栅极,所述衬底的第一表面进一步具有一沟槽,所述沟槽内壁覆盖有栅介质层,所述栅极在所述栅介质层围拢的空间内;所述掺杂阱层在垂直于衬底表面的方向包括由Si1‑xGex/Si构成的异质结。本发明的优点在于,可以通过调整Ge的摩尔百分比来调整异质结的能带结构,实现器件的优化。
公开/授权文献
- CN103745998A 沟槽栅功率场效应晶体管 公开/授权日:2014-04-23
IPC分类: