发明公开
- 专利标题: 用于产生衍射光栅的方法
- 专利标题(英): Method for producing a diffraction grating
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申请号: CN201280039162.5申请日: 2012-06-07
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公开(公告)号: CN103765253A公开(公告)日: 2014-04-30
- 发明人: 亨利·约翰尼斯·彼得勒斯·文克 , H·菲瑟 , 阿勒德特·希德·范·阿默荣恩
- 申请人: 荷兰应用自然科学研究组织TNO , 荷兰太空研究所SRON基金会
- 申请人地址: 荷兰代尔夫特
- 专利权人: 荷兰应用自然科学研究组织TNO,荷兰太空研究所SRON基金会
- 当前专利权人: 荷兰应用自然科学研究组织TNO,荷兰科学研究基金会
- 当前专利权人地址: 荷兰代尔夫特
- 代理机构: 北京派特恩知识产权代理事务所
- 代理商 孟桂超; 张颖玲
- 优先权: 11169180.4 2011.06.08 EP
- 国际申请: PCT/NL2012/050397 2012.06.07
- 国际公布: WO2012/169889 EN 2012.12.13
- 进入国家日期: 2014-02-10
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G02B5/00 ; G02B27/44
摘要:
公开了一种制造光栅的方法,所述光栅用于对射入所述光栅的光进行角色散。所述光栅包括渐窄结构以及腔。变化腔宽度和/或波纹幅度,以实现计算的期望的光栅效率。公开了用于方便地创建具有可变腔宽度和/或波纹幅度的光栅的方法。所述方法包括将槽图案各向异性地蚀刻到主光栅中的步骤。可选地,产生与所述主光栅互补的副本。通过变化抗蚀剂图案,可以变化所述光栅的腔宽度,从而允许向着不同效率目标进行优化。
公开/授权文献
- CN103765253B 衍射光栅及其制造方法、利用该光栅的光谱仪和激光器 公开/授权日:2017-04-05