本发明公开一种含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层及制备方法。所述含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层由VN层和TiSiN层交替沉积在基体上而形成的，靠近基体的一层为VN层，最上层也为VN层，含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层厚度为1.8-3.0μm，每一TiSiN层的厚度为5.0nm，每一VN层的厚度为0.3～0.8nm。其制备方法首先将基体表面抛光处理，经超声波清洗和离子清洗后，再采用反应溅射法在基体上交替溅射VN层和TiSiN层，最终得到最大硬度可达40.2 GPa的含有VN纳米插入层的TiSiN涂层。其制备方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度高等优点。